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「Kフィルター」溶剤吸着処理装置 ハニローター吸着濃縮処理装置 溶剤燃焼処理装置 Kマットロール脱臭装置 ハニローター除湿機 各種処理システム

標準フローシート 標準仕様表
装置の特長適用用途・範囲・業種ご注意


「Kフィルター」やハニローターによる溶剤・臭気の吸着処理(回収・濃縮)装置を多数販売してきましたが、さらに高効率でしかも廃棄物の発生を大幅に削減できる酸化分解装置も提供できるようになりました。

1. 高い処理効率
テスト・実績に基づき触媒、滞留時間、反応温度を設計し高効率処理をします。
2. 2次公害の少ない処理
完全燃焼を目指しています。
触媒毒などの処理機能を損う微量物質の測定技術を蓄積しています。
乾式処理ですから廃棄物が微量です。
3. 耐久性を高めています
熱交溶接部の割れを低減する構造としています。臭気ガスの性状に合せてバーナーを選定します。
4. 安全性重視設計
バーナー・ヒーターは実績のあるものを選択し、自動運転動作の選択を最大重視しています。
5. 3つの排ガス処理方法を用意しています

原理

特長

注意点
直接燃焼法
排気を700~900℃にて酸化分解処理する。 完全燃焼すれば高効率の処理が可能。
タール、粉塵への許容性が高い
不燃性の溶剤には適応困難。
燃焼による2次公害の発生に注意が必要。
蓄熱式燃焼法
蓄熱材にて95%以上熱回収を行い、排気を800~900℃にて酸化分解処理する。 熱回収率が極めて高く、ランニングコストが安い。
完全燃焼すれば高効率の処理が可能。
不燃性の溶剤には適応困難。
燃焼による2次公害の発生に注意が必要。
有機シリコン含有排気の処理は不向き。
触媒燃焼法
白金等の触媒を用いて、排気を250~400℃にて酸化分解処理する。 直接燃焼法に比べて燃料費が低い。
電気熱源の使用が可能。
不燃性の溶剤には適応困難。
燃焼による2次公害の発生に注意が必要。
触媒毒、特に有機シリコンに対しては要注意。
 
用途: 溶剤を含む排気及び循環空気の清浄化、高濃度溶剤・悪臭ガスの処理。
適用範囲: 1,000ppm以上の高濃度溶剤含有空気
適用業種: 半導体工場、液晶工場、電子部品工場、塗装工場、印刷工場、化成品工場、フィルム工場、紙加工工場など。
 
<選定に際して>
次の場合は触媒燃焼式は採用できないかあるいは前処理・後処理などの別の処置が必要です。十分なガス成分濃度の確認をお願いいたします。成分の測定、定量化についてご相談下さい。また、不明な点はお問い合せ下さい。
・有機シリコン化合物が含まれる場合
・多量の塵埃、ミスト、タール、ヤニが含まれる場合
・有機金属化合物、金属蒸気が含まれる場合
・ハロゲン化合物、硫黄、硫黄化合物が含まれる場合
・有機リン、リン化合物が含まれる場合
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